日前，拓荆科技股份有限公司顺利完成向特定对象发行A股股票工作，募集资金总额约46亿元。本次发行价格为576.01元/股，发行股份数量为798万余股。参与认购的投资者涵盖国家级产业基金、大型公募机构、国际知名投资机构及地方产业资本，市场反响积极。
据介绍，此次募集资金将全部用于主营业务相关的产能扩建、技术研发和日常运营资金补充，不涉及无关领域。其中，“高端半导体设备产业化基地建设项目”位于沈阳二厂，建成后将提升PECVD、ALD、沟槽填充CVD等系列薄膜沉积设备的大规模生产能力；同时，“前沿技术研发中心建设项目”将围绕先进存储、先进逻辑和先进封装等方向，重点突破相关工艺设备和智能控制系统的关键技术，进一步夯实自主技术储备，更好对接下游客户的工艺需求。
作为国内薄膜沉积设备和三维集成设备领域的主要企业，拓荆科技的产品已进入国内约100条芯片生产线，累计出货反应腔超过3800个，量产性能达到国际同类设备先进水平。公司表示，本次定增的顺利完成为后续产能扩张、技术攻坚和市场拓展提供了资金支撑。